Менеджер по продажам:Андреа
Эл. адрес: Андреа@tmaxlaboratory.com
WeChat: 18250801164
ВЧ источник питания для PECVD
Система PECVD состоит из трубчатой печи, кварцевой вакуумной камеры, вакуумного
система, система газоснабжения и система радиочастотного электроснабжения. В основном | используется для: роста металлических тонких пленок, керамических тонких пленок, композитных тонких пленок, |
графен и т. д. Легко добавлять функции и можно расширять такие функции, как | плазменная очистка и травление. Система PECVD обладает преимуществами высокой пленки. |
Скорость осаждения, хорошая однородность, высокая консистенция и стабильность. | Основные технические параметры ВЧ источника питания: |
Диапазон выходной мощности | 0-500 Вт |
Максимальное отраженное | сила |
200 Вт | рабочая частота |
РФ: 13,56 МГц ± 0,005% | Стабильность питания |
+/-0,1% | Гармоническая составляющая |
≤-50 дБн | Ширина радиочастотной области |
0-600ммрегулируемый | Соответствующий способ |
автоматический | Режим охлаждения |
Точки холода
Шум
<50 дБ
Subscribe to our weekly newsletter and receive exclusive offers on products you love!
X
Gold Supplier
